XDV®シリーズそれぞれの特長
XDV®シリーズのハイパフォーマンスモデルをご覧ください。それぞれの概要一覧は以下のとおりです。
XDV®SDD
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XDV®-µ
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XDV®-µ LD
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使用目的 | 0.05µm以下の薄膜測定や微量元素の分析 | 非常に小さな構造部分や平坦なコンポーネント、複雑な多層膜の測定 | 非常に小さな構造部分や平坦なコンポーネント、複雑な多層膜の測定 |
アプリケーション例 | 金、NiP分析、微量分析(RoHS指令対応) | リードフレーム、ボンディングワイヤ、SMDコンポーネント、はんだバンプ、ENIG / ENEPIG | コネクター、ストリップ・ピンコネクター、実装されたプリント回路基板 |
最小の測定スポット | 0.2 5mm | 20 µm / 10 µm | ⌀ 60 µm |
測定距離 | 0 mm〜80 mm | 4 mm〜5 mm / 1.5 mm〜2 mm | 少なくとも 12 mm |
最大サンプル高さ | 140 mm | 135 mm | 135 mm |
コリメーター | 4種類切替可能 | - | - |
ポリキャピラリー | - | 20 µm non halo-free (オプション:10µmまたは20µm halo-free) | 60 µmロングディスタンス用ポリキャピラリー |
一次フィルター | 6種類切替可能 | 4種類切替可能 | 4種類切替可能 |
検出器 | 50 mm²のシリコンドリフト検出器 | 20 mm²のシリコンドリフト検出器。 (50 mm²オプション) | 50 mm²のシリコンドリフト検出器。 (20mm²オプション) |
X線管 | タングステンターゲット、マイクロフォーカスチューブ | タングステンターゲット、マイクロフォーカスチューブ (オプション:モリブデンターゲット) | タングステンターゲット、マイクロフォーカスチューブ (オプション:モリブデンターゲット) |
サンプルステージサイズ | 370 mm x 320 mm | 370 mm x 320 mm (オプション:620 mm x 530 mm) | 370 mm x 320 mm (オプション:620 mm x 530 mm) |
放射線認証機器 | 型式認証を得た完全な保護装置 | ドイツの放射線防護法に準拠した完全な保護装置 | ドイツの放射線防護法に準拠した完全な保護装置 |
規格に準拠 | DIN ISO 3497、 ASTM B 568 | DIN ISO 3497、 ASTM B 568、 IPC-4552-A/B、 IPC-4556 | DIN ISO 3497、 ASTM B 568、 IPC-4552-A/B、 IPC-4556 |